Silizium - Photovoltaik
Technologische Verfahren
Die Herstellung von Dünnschicht-Solarzellen und Heterostruktur-Solarzellen erfordert Abscheideverfahren für die Absorber, Emitter und Kontaktschichten, sowie eine strukturierende Prozeßtechnik. Bei der Herstellung kristalliner Siliziumfilme werden zusätzlich Verfahrensschritte mit einer Kristallisierung amorpher Filme auf Glas erforscht.
Abscheideverfahren
Plasmadeposition (CVD - Labor)
- ECR-CVD (electron cyclotron resonance chemical vapor deposition)
- PE-CVD (plasma enhanced chemical vapor deposition)
Deposition im Ultrahochvakuum (UHV-Labor)
Aufdampf- und Sputtertechnik (PVD- Labor)
- thermische Verdampfung / Elektronenstrahl-Verdampfung
- Magnetron-Sputtern
Kristallisation amorpher Si-Filme
Zelltechnologie
- Halbleitertechnologische Verfahren
- Niedertemperatur Passivierung
- Nasschemische Konditionierung von Oberflächen
Transparente leitfähige Oxide (TCO)
