Nanoprägelithographie

Bei der Nanoprägelithographie (NIL – engl. Nanoimprint Lithography) handelt es sich um eine Methode zur Oberflächentexturierung, welche erstmals 1996 von Prof. Stephen Chou und Kollegen eingeführt wurde [1,2]. Diese neuartige Technologie brachte Verbesserungen in verschiedensten Forschungsgebieten mit sich, weshalb sie 2003 vom Massachusetts Institute of Technology als eine der 10 wichtigsten aufkommenden Technologien mit weltweitem Einfluss gelistet wurde [3]. Tatsächlich ermöglicht diese Methode nicht nur eine ultra-hohe Auflösung (bis zu 5 nm), sondern ist gleichzeitig kosteneffektiv und leicht anzuwenden. Daher findet diese Technologie auch bei der Realisierung von Hochskalierungsprojekten von industriellen Großanlagen Anwendung.


Abb. 1 zeigt schematisch wie mit Hilfe eines PDMS Stempels, der eine Textur auf ein mit einem Silikagel beschichtetes Glassubstrat überträgt.

 


Abb. 2 PDMS-Stempel unter einem Lichtmikroskop, welcher ein Replikat von drei Feldern (je 6x8 mm2) mit einer hexagonal angeordnete Gittertextuen mit Perioden zwischen 600 nm und 800 nm enthält.