Reinraum @EE-IS - EMIL

Das Institut Silizium-Photovoltaik betreibt zwei  Reinräume zur Durchführung von halbleitertechnologischen Prozessen auf der Basis von Silizium. Einer der beiden befindet sich im EMIL-Gebäude, der zweite im EE-IS-Gebäude 12.8.

Hierbei handelt es sich um einen ISO 5-Reinraum der ausschließlich für Prozesse der Siliziumtechnologie genutzt wird. Die prozessierbaren Substratgrößen liegen bei Kantenlängen zwischen 10 mm x 10 mm und 150 mm x 150 mm bzw. einem Durchmesser von 2“ bis 150 mm.

Im EMIL-Reinraum ist es möglich, Siiziumproben unmittelbar vor deren Beschichtung im SISSY-Labor nasschemisch zu behandeln. Die Proben können durch eine Materialschleuse direkt vom Reinraum in das Beschichtungslabor übergeben werden, so dass beispielsweise  zwischen finalem HF-Dip und der Schichtabscheidung nur extrem kurze Zeiten liegen.

Folgende Prozessstrecken stehen zur Verfügung:

Nassprozessstrecke

Nassbank EMIL

Es steht eine Nassprozessstrecke zur Verfügung, die sowohl das Prozessieren kleiner Proben in Bechern sowie den Chargenbetrieb mit ganzen Wafern in Prozessbecken erlaubt. Die Nassbank besteht aus insgesamt 4 Segmenten, die jeweils für spezielle Aufgaben ausgestattet sind:

 

 

Segment Reinigung

  • RCA-Reinigung
  • HF-Dips

Segment Ätzen

  • Entfernen des Sägeschadens und Texturierung  an  Siliziumoberflächen
  • Durchführung von Ätzprozessen an Siliziumproben

Segment Ozonbehandlung

  • Behandlung von Siliziumproben in ozonhaltigen Bädern (Reinigung, Erzeugung dünner Oxide)

Segment Spin-Prozessor

  • Durchführung von Ätz- und Reinigungsprozessen in einem Spin-Prozessor im Einzelscheibenbetrieb

 

Prozesskontrolle

Zur Prozesskontrolle steht ein optisches Mikroskop mit Vergrößerungen von 50x, 200x, 500x, 100x, 1500x) und Hell- und Dunkelfeldmodus zur Verfügung.