LEEM-PEEM

LEEM-PEEM

Kombiniertes Niederenergie-/Photoemissions- Elektronenmikroskop mit Aberrationskorrektur.

Elektronenoptisches Layout des SPECS P90 AC LEEMPEEM

Elektronenoptisches Layout des SPECS P90 AC LEEMPEEM

Liste von Publikationen
Station data
Temperature range 300-1600 K
Pressure Range 4 E-10 -- 1 E-7 mbar
Detector two-stage MCP (Hamamatsu)
Manipulators 5-Axis Piezo-contolled
Sample holder compatibility special SPECS
samples 9mm
Beamline(s)

UE56-1_SGM

Ortsauflösung LEEM-Modus 2 nm
Ortsauflösung PEEM-Modus 20 nm
Enddruck 4E-10 mbar
Präparationskammer * Sputtering up to 1.5kV * Sample temp. range 300 - 1200 K * pyrometric temp. measurement * LEED * Auger * gas inlets: Ar, O2, user specific * base pressure 1E-10 mbar
Telefon +49 30 8062 14714

Methods

NEXAFS, XMCD, X-ray Microscopy, Photoelectron EM

Dieses Mikroskop ist mit einem neuartigen Aberrationskorrektor ausgestattet, der elektronenoptische Abbildungsfehler minimiert und dadurch gleichzeitig Transmission und Ortsauflösung erhöht. Im LEEM-Betrieb wurden im Labor bereits 2 nm nachgewiesen. In Kombination mit weicher Röntgenstrahlung (XPEEM) können orstaufgelöste spektroskopische Untersuchungen (NEXAFS, XPS) sowie magnetische Messungen (XMCD,XMLD) durchgeführt werden. Eine kürzlich installierte Erweiterung erlaubt stroboskopische XPEEM-Experimente zur Magnetisierungsdynamik.