Reinraum @EE-IS - EMIL

Das Institut Silizium-Photovoltaik betreibt zwei  Reinräume zur Durchführung von halbleitertechnologischen Prozessen auf der Basis von Silizium. Einer der beiden befindet sich im EMIL-Gebäude, der zweite im EE-IS-Gebäude 12.8.

Hierbei handelt es sich um einen ISO 5-Reinraum der ausschließlich für Prozesse der Siliziumtechnologie genutzt wird. Die prozessierbaren Substratgrößen liegen bei Kantenlängen zwischen 10 mm x 10 mm und 150 mm x 150 mm bzw. einem Durchmesser von 2“ bis 150 mm.

Im EMIL-Reinraum ist es möglich, Siiziumproben unmittelbar vor deren Beschichtung im SISSY-Labor nasschemisch zu behandeln. Die Proben können durch eine Materialschleuse direkt vom Reinraum in das Beschichtungslabor übergeben werden, so dass beispielsweise  zwischen finalem HF-Dip und der Schichtabscheidung nur extrem kurze Zeiten liegen.

Folgende Prozessstrecken stehen zur Verfügung:

Nassprozessstrecke

Es steht eine Nassprozessstrecke zur Verfügung, die sowohl das Prozessieren kleiner Proben in Bechern sowie den Chargenbetrieb mit ganzen Wafern in Prozessbecken erlaubt. Die Nassbank besteht aus insgesamt 4 Segmenten, die jeweils für spezielle Aufgaben ausgestattet sind:

 

 

Segment Reinigung

  • RCA-Reinigung
  • HF-Dips

Segment Ätzen

  • Entfernen des Sägeschadens und Texturierung  an  Siliziumoberflächen
  • Durchführung von Ätzprozessen an Siliziumproben

Segment Ozonbehandlung

  • Behandlung von Siliziumproben in ozonhaltigen Bädern (Reinigung, Erzeugung dünner Oxide)

Segment Spin-Prozessor

  • Durchführung von Ätz- und Reinigungsprozessen in einem Spin-Prozessor im Einzelscheibenbetrieb

 

Prozesskontrolle

Zur Prozesskontrolle steht ein optisches Mikroskop mit Vergrößerungen von 50x, 200x, 500x, 100x, 1500x) und Hell- und Dunkelfeldmodus zur Verfügung.