Laminar flow wet bench Arias @ Cleanroom EMIL
Laminarflownassbank
Der EMIL-Reinraum ist für die Durchführung nasschemischer Prozesse (Texturierung, Reinigung) ausschließlich an Siliziumwafern mit einer Größe von 4" rund bis zu einer Kantenlänge von 156 mm (Texturierung bis zu einer Kantenlänge von 166 mm) ausgestattet. Zu diesem Zweck stehen mehrere Laminar-Flow-Nassbänke zur Verfügung, in denen Reinigungsprozesse mittels RCA-Reinigung oder Ozonreinigung sowie Texturierung (Ätzen von zufälligen Pyramiden) in KOH-Lösungen durchgeführt werden können. Die entsprechenden Chemikalien für diese Prozesse sind verfügbar.
Anwendungsbeispiele:- Ozonreinigung
- Isotropes/Anisotropes Siliziumätzen mit KOH (und Additiv)
- HF-Dip
- RCA Reinigung
- IR-Trocknung
Methoden
Das Gerät kann genutzt werden
Labore
Probentypen
| Short description | Laminar flow wet bench for silicon wafers |
| Nutzung | internal usage |
| Gebäude/Raum | 14.54 (EMIL) / 0013 |
| Location | Adlershof |
| Zusatzinformation | In radiation protection area. Operation permitted only after completed laboratory training/instruction. |
| Geräteparameter | |
| Wafergröße | Size: 4" round, 5" and 6" square (156 mm edge length to 166 mm edge length). Or custom sizes. |
| KOH-Beckentemperatur | max. 90°C |
| Waferanzahl | 25 samples in one etching process run (common wafer size). Or 1 sample in custom size |
| Ozonreinigung | 1 basin for rough clean and 1 basin for final clean. |
| RCA Bank | RCA 1, RCA 2, HF, Rinser |
For more details and current status of the Instrument please contact the Instrument Scientist.