2021


Feng, Y.; Huang, Q.; Zhuang, Y.; Sokolov, A.; Lemke, S.; Qi, R.; Zhang, Z.; Wang, Z.: Mo/Si lamellar multilayer gratings with high efficiency and enhanced resolution for the x-ray region of 1000-1700eV. Optics Express 29 (2021), p. 13416-13427

2019


Sokolov, A.; Huang, Q.; Senf, F.; Feng, J.; Lemke, S.; Alimov, S.; Knedel, J.; Zeschke, T.; Kutz, O.; Seliger, T.; Gwalt, G.; Schäfers, F.; Siewert, F.; Kozhevnikov, I.V.; Qi, R.; Zhang, Z.; Li, W.; Wang, Z.: Optimized highly efficient multilayer-coated blazed gratings for the tender X-ray region. Optics Express 27 (2019), p. 16833-16846

2018


Siewert, F.; Löchel, B.; Buchheim, J.; Eggenstein, F.; Firsov, A.; Gwalt, G.; Kutz, O.; Lemke, S.; Nelles, B.; Rudolph, I.; Schäfers, F.; Seliger, T.; Senf, F.; Sokolov, A.; Waberski, C.; Wolf, J.; Zeschke, T.; Zizak, I.; Follath, R.; Arnold, T.; Frost, F.; Pietag, F.; Erko, A.: Gratings for synchrotron and FEL beamlines: a project for the manufacture of ultra-precise gratings at Helmholtz Zentrum Berlin. Journal of Synchrotron Radiation 25 (2018), p. 91-99

2016


Senf, F.; Bijkerk, F.; Eggenstein, F.; Gwalt, G.; Huang, Q.; Kruijs, R.; Kutz, O.; Lemke, S.; Louis, E.; Mertin, M.; Packe, I.; Rudolph, I.; Schäfers, F.; Siewert, F.; Sokolov, A.; Sturm, J.M.; Waberski, C.; Wang, Z.; Wolf, J.; Zeschke, T.; Erko, A.: Highly efficient blazed grating with multilayer coating for tender X-ray energies. Optics Express 24 (2016), p. 13220-13230

2014


Kühne, S.; Haskic, K.; Lemke, S.; Schmidt, M.: Fabrication and characterization of machined 3D diffractive optical elements. Microsystem Technologies 20 (2014), p. 2103-2107


Lemke, S.; Seliger, T.; Rudolph, I.; Kutz, O.; Goettert, Ph.; Nelles, B.; Senf, F.; Löchel, B.: Status of laminar grating manufacturing via lithography at HZB. Microsystem Technologies 4 (2014), p. 2061-2064

2013


Lemke, S.; Seliger, T.; Naß, C.; Göttert, P.; Rudolph, I.; Kutz, O.; Gwalt, G.; Nelles, B.; Senf, F.; Löchel, B.: Fertigung laminarer optischer Gitter am HZB. In: Von Bauelementen zu Systemen : proceedings / Mikrosystemtechnik-Kongress 2013, 14. - 16. Oktober 2013 in Aachen, 14. - 16. Oktober 2013 in Aachen / CD-ROM. Berlin: VDE-Verl., 2013. - ISBN 978-3- 8007-3555-6, p. 447-449


Loechel, B.; Erko, A.; Lemke, St.; Nelles, B.; Schmidt, M.; Senf, F.: Installation of a technological center for highly efficient optical gratings at Helmholtz-Zentrum Berlin (HZB). Journal of Physics : Conference Series 425 (2013), p. 212012/1-4

2012


Göttert, J.; Lemke, S.; Rudolph, I.; Seliger, T.; Löchel, B.: Soft X-Ray Lithography for High-Aspect Ratio Sub-Micrometer Structures. In: Nanotechnology 2012: Electronics, Devices, Fabrication, MEMS, Fluidics and Computational (Volume 2). NSTI, 2012. - ISBN 978-1-4665-6275-2, p. 188-191

2011


Schulz, J.; Lemke, S.; Mohr, J.; Voigt, A.; Walter, M.; Worgull, M.: LIGA - Neues von Tiefenlithographie und Abformung. In: Proceedings / Mikrosystemtechnik-Kongress 2011 : 10. - 12. Oktober 2011, Darmstadt. 1 CD-ROM. Berlin: VDE-Verl., 2011. - ISBN 978-3-8007-3367-5, p. 142-145


Schönfeld, M.; Saupe, J.; Vogel, J.; Aßmann, H.; Cappek, M.; Lemke, S.; Löchel, B.; Grimm, J.: Experimentelle Untersuchung und theoretische Betrachtung zur gravimetrisch kontrollierten IR-Trocknung dicker SU-8-Schichten. In: Proceedings / Mikrosystemtechnik-Kongress 2011 : 10. - 12. Oktober 2011, Darmstadt. 1 CD-ROM. Berlin: VDE-Verl., 2011. - ISBN 978-3-8007-3367-5, p. 543-546