Schönfeld, M.; Saupe, J.; Vogel, J.; Aßmann, H.; Cappek, M.; Lemke, S.; Löchel, B.; Grimm, J.: Experimentelle Untersuchung und theoretische Betrachtung zur gravimetrisch kontrollierten IR-Trocknung dicker SU-8-Schichten. In: Proceedings / Mikrosystemtechnik-Kongress 2011 : 10. - 12. Oktober 2011, Darmstadt. 1 CD-ROMBerlin: VDE-Verl., 2011. - ISBN 978-3-8007-3367-5, p. 543-546
Abstract:
Epoxidharz-basierte Photoresistsysteme finden in der Mikrosystemtechnik neben dem Einsatz als Resist im Fertigungsprozess (z. B. LIGA) auch als Werkstoff zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente, wie bspw. Cantileversensoren im Umweltmonitoring Anwendung. Das definierte Trocknen (Soft Bake) der Resistschichten übt einen wesentlichen Einfluss auf die Qualität der lithographisch erzeugten Strukturen aus. Es wurde ein alternatives Infrarot-Trocknungsverfahren zur herkömmlichen Resisttrocknung auf Hotplates erarbeitet, getestet und erfolgreich bei der Verarbeitung dicker Resistschichten eingesetzt. Diese innovative Trocknungsmethode ermöglicht die in-situ Überwachung des Trocknungsvorgangs der Resistschicht. Eine theoretische Einteilung der einzelnen Trocknungsabschnitte und eine Herleitung eines Fit-Modells aus dem 2. Fickschen Gesetz werden dargestellt.