Lemke, S.; Seliger, T.; Naß, C.; Göttert, P.; Rudolph, I.; Kutz, O.; Gwalt, G.; Nelles, B.; Senf, F.; Löchel, B.: Fertigung laminarer optischer Gitter am HZB. In: Von Bauelementen zu Systemen : proceedings / Mikrosystemtechnik-Kongress 2013, 14. - 16. Oktober 2013 in Aachen, 14. - 16. Oktober 2013 in Aachen / CD-ROMBerlin: VDE-Verl., 2013. - ISBN 978-3- 8007-3555-6, p. 447-449
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Abstract:
Laminare optische Gitter stellen höchste Anforderungen an die mikrosystemtechnische Fertigung der Mikro- und Nano-strukturen in Hinsicht auf Präzision und Homogenität. Im Rahmen des EU-Projektes „Aufbau eines Technologiezent-rums für hocheffiziente optische Präzisionsgitter am Helmholtz-Zentrum Berlin (HZB)“ (EFRE Vertrag Nr. 20072013 2/43) [1,2] wurden die für die Herstellung von laminaren und geblazten Gittern notwendigen Anlagen in Betrieb ge-nommen. Gleichzeitig wurde mit der Prozessentwicklung begonnen. In diesem Artikel werden die neuesten Prozessergebnisse von durch Laserinterferenzlithographie (LIL) in Photoresist erzeugter Gitterstrukturen und deren nur wenige Nanometer tiefe Übertragung in Siliziumsubstrate mittels Ionenstrahl-ätzen vorgestellt. --- english version ---- Laminar optical gratings impose highest demands on microsystem technological manufacturing with regard to precision and uniformity. Within the project “Installation of a technology centre for highly efficient precision gratings at Helm-holtz-Zentrum Berlin (HZB)” (EFRE Vertrag Nr. 20072013 2/43) [1,2] the necessary systems for the manufacturing of laminar and blazed gratings were taken into operation and process development has started. In this article we present the results of grating structures manufactured with laser interference lithography and subse-quent ion beam etching.